電子廠廢氣處理本產(chǎn)品利用特制的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。

電子廠廢氣凈化處理利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到有效脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

電子廠廢氣凈化處理技術(shù)特點(diǎn) ：

1、UV光束能量高，可以與大部分廢氣、惡臭氣體反應(yīng)； 

2、使用過程中電能直接轉(zhuǎn)化成光能，不會(huì)產(chǎn)生電火花，安全性較高，電器和氣體為隔離狀態(tài)； 

3、設(shè)備占地小、設(shè)備只耗電，運(yùn)行費(fèi)用低。

注：

（1）惡臭物質(zhì)能否被裂解，取決于其化學(xué)鍵鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低。

（2）裂解反應(yīng)的時(shí)間極短（＜0.01s），氧化反應(yīng)的時(shí)間需2-3s。

（3）提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會(huì)因?yàn)榱呀饣蜓趸?而生成一些中間副產(chǎn)物，從而影響凈化效率。對于高濃度大分子的有機(jī)惡臭物質(zhì)體現(xiàn)得較為明顯。

（4）UV光解凈化的長期穩(wěn)定、高效